WET STATION
용도

– 태양전지 용 wafer cleaning process(유기물, metal 등)
– 태양전지 용 saw damage etching process
– 빛 반사손실을 줄이기 위한 wafer 표면 texturization
기타 규격
– bath 규격 : 6인치 solar wafer 기준

FURNACE
용도

– Wet oxidation process
– POCl3를 이용한 n-type emitter 형성
– BBr3를 이용한 p-type emitter 형성
기타 규격
– bath 규격 : 6인치 solar wafer 기준

PECVD
용도

– 반사방지막 증착 (SiNx)
– 실리콘 산화막 (SiOx) 증착
기타 규격
– bath 규격 : 6인치 solar wafer 기준

SCREEN PRINTER
용도

– 태양전지 n-type emitter 형성용 (paste 프린트)
– 태양전지 metal (전, 후면) 형성용 (paste 프린트)
기타 규격
– 인쇄속도 : 13pcs/min
– 인쇄범휘 : 6인치 solar wafer 기준

RTP SYSTEM
용도

– 전극 소성 공정
– n-type emitter 형성용 열처리
기타 규격
– bath 규격 : 6인치 solar wafer 기준

SPUTTERING SYSTEM
용도

– 태양전지용 TCO 전극 제작
기타 규격
– bath 규격 : 6인치 solar wafer 기준

1. QSSPC 라이프타임측정

2. UV-Vis spectroscopy 광투과도 및 반사도 측정 (규격_190nm-2700nm)

3. Evaporator 금속증착 (규격_4cm*4cm)

4. QE equipment 양자효율 측정

5. 4 point probe 전기전도도 측정

6. Suns-Voc 직렬저항을 제외한 Voc 측정

7. 소면적 시뮬레이터 광전압-전류 특성 측정 (규격_지름1cm)

8. Glove box 불활성 기체 조건에서의 실험

9. 대면적 시뮬레이터 광전압-전류 특성 측정 (규격_6인치)